型号:

 

F30 系列 监控薄膜沉积,最强有力的工具 F30 光谱反射率系统能实时测量沉积率、沉积层厚度、光学常数 (n 和 k 值) 和半导体以及电介质层的均匀性。 样品层 分子束外延和金属有机化学气相沉积: 可以测量平滑和半透明的,或轻度吸收的薄膜。 这实际上包括从氮化镓铝到镓铟磷砷的任何半导体材料。



各项优点:

极大地提高生产力

低成本几个月就能收回成本

A精确测量精度高于 ±1%

快速几秒钟完成测量

非侵入式完全在沉积室以外进行测试

易于使用直观的 Windows? 软件

几分钟就能准备好的系统

型号规格

型号

厚度范围*

波长范围

F30

15nm-70μm

380-1050nm

F30-EXR

15nm - 250μm

380-1700nm

F30-NIR

100nm - 250μm

950-1700nm

F30-UV

3nm-40μm

190-1100nm

F30-UVX

3nm - 250μm

190-1700nm

F30-XT

0.2μm - 450μm

1440-1690nm

*取决于薄膜种类

常见的选购配件:

镜头组

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