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电子束曝光系统
品 牌 :Elionix
型 号 :ELS-F125/F100/HS50
产 地 :日本
关键词 :电子束曝光,电子束直写

ELS-F125是Elionix推出的加速电压达125KV的电子束曝光系统,其可加工线宽下限为5nm的精细图形。(以下参数基于ELS-F125)




ELS-F125具有以下优点:

l  超高书写精度

- 5 nm 线宽精度 @125 kV

- 1.7 nm 电子束直径&邻近效应小化 @125 kV



l  大通量、均匀性好

- 宽视野书写:500um视场下10 nm线宽

- 高束流下电子束直径依然很小,大通量而不影响分辨率,2 nm电子束直径@1 nA



l  界面用户友好

基于Windows系统的CADSEM界面:

-简单易用的图案设计功能

-易于控制的电子束条件



二、主要功能

主要应用

纳米器件的微结构

集成光学器件,如光栅,光子晶体等

NEMS结构,复杂精细结构

光刻掩模板,压印模板

技术能力

    


三、应用