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自主研发 CMP综合解决方案
VIL系列纳米图形系统(激光干涉光刻机)具有快速可重构光束传输、主动图形稳定和精确样品定位等强大功能...
可检测光阻产品、SOG等产品中0.15um的颗粒
双模式等离子清洗机,等离子刻蚀系统(PE/RIE)
等离子清洗机,等离子刻蚀机
聚对二甲苯涂层设备
新设计的精致型原子力显微镜,多种模式,轻敲,接触,力曲线,液相等多功能
更高效率,更低成本
干式mK系统,可替代更昂贵,更占用空间的稀释制冷机(DR)