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首页> > 产品中心 > 电子束曝光机（Electron Beam Lithography, EBL）

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电子束曝光机（Electron Beam Lithography, EBL）
品 牌 ：SHNTI
型 号 ：Pharos X100
产 地 ：中国
关键词 ：电子束曝光 12英寸 刻蚀加工 EBL
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电子束曝光一种高分辨率的微细加工技术，广泛应用于纳米科技和半导体制造领域。其基本原理是利用聚焦的电子束在光刻胶上进行直接写入，通过改变光刻胶的化学性质来形成微纳米结构图案。上海纳腾仪器有限公司自主研发的电子束曝光机（Pharos系列产品）， 具有高分辨率、 精准控制和高度自动化的优势， 被广泛应用于制备半导体芯片、 光子学元件和其他微纳米结构等领域， 是进行亚微米至纳米级曝光技术研发的理想工具。